台积电曾因代工受台当局歧视 两老战探讨半导体未来

张忠谋。

中国台湾网4月16日讯据台湾“东森新闻云”报道，台积电（2330）竟然会被歧视？这样的往事，只有老台积人才知道。台湾“中研院院士”胡正明与联发科执行长蔡力行近日在台湾交通大学所举办的智慧半导体产学联盟论坛中，各自从学术界及实务界探讨半导体未来，两人的共同点除了都是半导体业重量级人物，同时也都是“老台积人”，为了让更多学子理解半导体产业，勇于跨入此产业，两人再度聚首。

蔡力行现职是联发科执行长，但因为曾经是台积电董事长张忠谋指定的接班人，最家喻户晓的名号是“小张忠谋”，虽然后来离开台积电，但始终活跃于半导体业界。

胡正明曾在张忠谋邀请下，于2001年自美返台任台积电首任技术长，协助台积电打下包括把鳍式晶体管制程基础，突破摩尔定律极限。

胡正明回忆，在台积电担任技术长时，就从台当局分配替代役方案中知道台积电很受歧视，认为台积电只是个代工厂，他更直言，若未来摩尔定律终止了，台积电是不是更不被支持了？

但数字会说话，全球半导体产值不断创高，2017年更首度超越4000亿美元，胡正明以世界经济成长率的线图与半导体业过去30年来的成长线图做比对，从1995年起，半导体经历过去年成长17%的美好年代，但是1995年后，虽然没有过去成长幅度大，但速度都没有慢下来，年成长仍维持4.5%，对此，蔡力行也附和，世界上要找到一个复合年增率（CAGR）维持4.5%—5%的产业不多了。

胡正明举出当年自己突破摩尔定律经验，1999年时摩尔定律就不被看好，业界担心把晶体管做小就没办法关闭，但2010年就做出来，也就是FinFET－鳍型晶体管。

胡正明发明了鳍型晶体管（FinFET）以及“完全空乏型晶体管”（FD-SOI），两大革命性创新为半导体带来新契机。2011年5月英特尔宣布使用FinFET技术，包括台积电、三星、苹果也都陆续采用FinFET，胡正明等于开创了摩尔定律被唱衰后的新契机。

胡正明过去就主张，只要能创造附加价值、创造高薪工作机会，就是好的产业，他认为，在发展极致工艺过程中价格会变高，因此，半导体的成长要再持续100年“当然可能”，即使摩尔定律终止，半导体仍是好的产业。

蔡力行则强调，半导体对台湾而言是极度重要的生产性产业（extremely important prductive industry），去年在台湾创造出2兆5000亿（新台币，下同）产值，位居全球第三名，占台湾GDP15%，台湾半导体业不单是产值高，而且在全球是具有竞争力，“那么难做的东西，我们在全球产能第三！”半导体的重要不言而喻。

蔡力行认为，年轻人想在半导体业创新或找出差异化，不见得要用最新制程技术，他以5G为例，5G一定会发生，可从必备的“RF组件”切入，且不见得用昂贵的7纳米或10纳米才能做到。

蔡力行建议，台当局应该把更多资源给学校，让学生愿意踏入半导体，无论是实验室（Fab）或设计，这等于是给半导体企业业一个公平竞争环境。（中国台湾网王怡然）

联发科执行长蔡力行（右2）与台湾“中研院院士”胡正明（左2）两人是台积电老战友 。